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簡要描述：Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器，用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光，同時透射P偏振光，可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中?？梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2024-04-23訪 問 量：1127相關文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器
990-0071
Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器
將激光束分成兩束，分別由68°的手動可調(diào)強度比，較大的動態(tài)范圍，可忽略的透射光束偏差組成。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束，分別由手動調(diào)節(jié)強度比的68°角分開
?大動態(tài)范圍
?可以忽略的透射光束偏差
?高光學損傷閾值
?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％反射光束的衰減范圍：5％-99.5％
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器，用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光，同時透射P偏振光，可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中?？梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。
可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
產(chǎn)品型號
飛秒激光脈沖
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-400B | 390-410 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-515B | 505-525 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-1030B | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
大功率激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-400HB | 390-410 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-515HB | 505-525 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0071-1030HB | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
飛秒應用
孔徑 | 10 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型 |
時間色散 | 對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖，t<4 fs |
偏振對比 | >1:200 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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