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Eksma 寬帶激光反射鏡-2

簡要描述:Eksma 寬帶激光反射鏡-2
寬帶介電反射鏡在規(guī)定的波長范圍內(nèi)提供了優(yōu)化的寬帶性能。寬帶激光反射鏡專為使用Ti:Sapphire,染料,二極管和YAG激光器的應用而設計。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:1137

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 寬帶激光反射鏡-2


Eksma 寬帶激光反射鏡-2

寬帶激光反射鏡在設計的寬帶波長范圍內(nèi)提供高反射率。反射鏡專為鈦,藍寶石,染料,二極管和YAG激光應用而設計。

產(chǎn)品介紹

Ø寬帶性能適用于流行的激光波長范圍

Ø高反射率-(s + p)/ 2偏振的Ravg> 99%

Ø由UV級熔融石英或BK7基材制成

Ø設計用于45°或0°入射角

Ø對于超快速應用-720-880 mm的寬帶低GDD激光鏡可在此處找到

寬帶介電反射鏡在規(guī)定的波長范圍內(nèi)提供了優(yōu)化的寬帶性能。寬帶激光反射鏡專為使用Ti:Sapphire,染料,二極管和YAG激光器的應用而設計。

獲得的高拋光質(zhì)量對于低波前畸變,低散射和高損傷閾值至關重要。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產(chǎn)品型號

BK7; ø 50.8 x 8 mm

型號

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長

應用

075-3644

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

360-440 nm

Ti:Sa 2H

075-3644-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

360-440 nm

Ti:Sa 2H

075-4254

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

420-540 nm

Dye

075-4254-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

420-540 nm

Dye

075-5265

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

520-650 nm

Dye

075-5265-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

520-650 nm

Dye

075-6085

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

600-850 nm

Diode

075-6085-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

600-850 nm

Diode

075-7395

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

730-950 nm

Ti:Sa

075-7395-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

730-950 nm

Ti:Sa

075-8011

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

45°

800-1100 nm

Diode, YAG

075-8011-i0

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

800-1100 nm

Diode, YAG

UVFS; ø12.7 x 3 mm

型號

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長

應用

081-2225

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

220-250 nm

Spectroscopy

081-2225-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

220-250 nm

Spectroscopy

081-2638

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

260-380 nm

Spectroscopy

081-2638-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

260-380 nm

Spectroscopy

081-3644

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

360-440 nm

Ti:Sa 2H

081-3644-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

360-440 nm

Ti:Sa 2H

081-4254

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

420-540 nm

Dye

081-4254-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

420-540 nm

Dye

081-5265

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

520-650 nm

Dye

081-5265-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

520-650 nm

Dye

081-6085

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

600-850 nm

Diode

081-6085-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

600-850 nm

Diode

081-7395

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

730-950 nm

Ti:Sa

081-7395-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

730-950 nm

Ti:Sa

081-8011

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

45°

800-1100 nm

Diode, YAG

081-8011-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.0%

800-1100 nm

Diode, YAG

UVFS; ø12.7 x 6 mm

型號

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長

應用

081-2225T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

220-250 nm

Spectroscopy

081-2225T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

220-250 nm

Spectroscopy

081-2638T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

260-380 nm

Spectroscopy

081-2638T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

260-380 nm

Spectroscopy

081-3644T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

360-440 nm

Ti:Sa 2H

081-3644T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

360-440 nm

Ti:Sa 2H

081-4254T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

420-540 nm

Dye

081-4254T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

420-540 nm

Dye

081-5265T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

520-650 nm

Dye

081-5265T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

520-650 nm

Dye

081-6085T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

600-850 nm

Diode

081-6085T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

600-850 nm

Diode

081-7395T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

730-950 nm

Ti:Sa

081-7395T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

730-950 nm

Ti:Sa

081-8011T6

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

800-1100 nm

Diode, YAG

081-8011T6-i0

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

800-1100 nm

Diode, YAG

 

基材

材料

BK7 *玻璃或UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

直徑公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術

電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

損壞閾值

1 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm

鍍膜表面平整度

633 nm處的λ/ 10超過直徑的85%

入射角

0°或45°

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

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