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Eksma UVFS激光線反射鏡-4

簡要描述：Eksma UVFS激光線反射鏡-4
高反射率（&amp;amp;amp;amp;amp;gt; 99％反射率）激光線鏡由石英制成，并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV，VIS和NIR激光器。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2021-03-22
訪問量：903

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品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma UVFS激光線反射鏡-4

高反射率（> 99％反射率）激光線鏡由石英制成，并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV，VIS和NIR激光器。

Eksma UVFS激光線反射鏡-4

產(chǎn)品介紹

Ø高反射鏡（反射率> 99％）

Ø設(shè)計用于45°或0°入射角

Ø由紫外線等級的熔融石英制成

Ø對于由BK7材料制成的激光線鏡，請單擊此處

激光線反射鏡是介電反射鏡，在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。我們的激光鏡由石英制成，并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值，鏡子亞表面的高拋光質(zhì)量也很重要。

介電紫外熔融石英激光線鏡在UV，VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應(yīng)用。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

UVFS; ø50.8x8 mm

型號	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波長	應(yīng)用
045-0240	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	244-248 nm	KrF
045-0240-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	244-248 nm	KrF
045-0260	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	262-266 nm	Nd:YAG 4H
045-0260-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	262-266 nm	Nd:YAG 4H
045-0266	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	257-275 nm	Ti:Sa 3H
045-0266-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	257-275 nm	Ti:Sa 3H
045-0300	50.8 mm	8 mm	99.2%	45°	308 nm	XeCl
045-0300-i0	50.8 mm	8 mm	99.2%	0°	308 nm	XeCl
045-0325	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	325 nm	HeCd
045-0325-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	325 nm	HeCd
045-0343	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	333-353 nm	Yb:KGW/KYW 3H
045-0343-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	333-353 nm	Yb:KGW/KYW 3H
045-0347	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	347 nm	Ruby
045-0347-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	347 nm	Ruby
045-0350	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0400	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	380-420 nm	Ti:Sa 2H
045-0400-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	380-420 nm	Ti:Sa 2H
045-0515	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	500-530 nm	Yb:KGW/KYW 2H
045-0515-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	500-530 nm	Yb:KGW/KYW 2H
045-0530	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0800	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-1030	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1060	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H

基材

材料	UV級熔融石英
S1表面平整度	λ/10 typical at 633 nm
S1表面質(zhì)量	20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
S2表面質(zhì)量	簡單拋光
直徑公差	+ 0.00 mm, - 0.12 mm
厚度公差	± 0.25 mm
楔	< 3 minutes
倒角	0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損壞閾值	6 J / cm2，8納秒脈沖，典型值1064 nm
鍍膜表面平整度	通光孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0°或45°

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